灰階微影蝕刻之正型光阻
產品編號 :006
ma-P 1275G是一款專門為灰階微影製程所設計的厚膜正型光阻。
材料特性：
- 低對比形成灰階造型
- 膜厚達60微米以上
- 微結構深度可能範圍50-60微米
- 顯影於THAM類鹼性水溶液
- 於電鍍製程具有高穩定性
- 蝕刻圖案具有良好熱穩定性
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產品描述
